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內容導航:- 鍍銅的工藝過程!
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- 什麽是銅工藝品?
- 銅製品電鍍工藝
Q1:鍍銅的工藝過程!
PCB化學鍍銅工藝流程解讀(一)化學鍍銅(Eletcroless Plating Copper)通常也叫沉銅或孔化(PTH)是一種自身催化性氧化還原反應。首先用活化劑處理,使絕緣基材表麵吸附上一層活性的粒子通常用的是金屬鈀粒子(鈀是一種十分昂貴的金屬,價格高且一直在上升,為降低成本現在國外有實用膠體銅工藝在運行),銅離子首先在這些活性的金屬鈀粒子上被還原,而這些被還原的金屬銅晶核本身又成為銅離子的催化層,使銅的還原反應繼續在這些新的銅晶核表麵上進行。化學鍍銅在我們PCB製造業中得到了廣泛的應用,目前最多的是用化學鍍銅進行PCB的孔金屬化。PCB孔金屬化工藝流程如下: 鑽孔→磨板去毛刺→上板→整孔清潔處理→雙水洗→微蝕化學粗化→雙水洗→預浸處理→膠體鈀活化處理→雙水洗→解膠處理(加速)→雙水洗→沉銅→雙水洗→下板→上板→浸酸→一次銅→水洗→下板→烘幹一、鍍前處理1.去毛刺
鑽孔後的覆銅泊板, 其孔口部位不可避免的產生一些小的毛刺,這些毛刺如不去除將會影響金屬化孔的質量。最簡單去毛刺的方法是用200~400號水砂紙將鑽孔後的銅箔表麵磨光。機械化的去毛刺方法是采用去毛刺機。去毛刺機的磨輥是采用含有碳化矽磨料的尼龍刷或氈。一般的去毛刺機在去除毛刺時,在順著板麵移動方向有部分毛刺倒向孔口內壁,改進型的磨板機,具有雙向轉動帶擺動尼龍刷輥,消除了除了這種弊病。2.整孔清潔處理
對多層PCB有整孔要求,目的是除去鑽汙及孔微蝕處理。以前多用濃硫 酸除鑽汙,而現在多用堿性高錳酸鉀處理法,隨後清潔調整處理。孔金屬化時,化學鍍銅反應是在孔壁和整個銅箔表麵上同時發生的。如果某些部位不清潔,就會影響化學鍍銅層和印製導線銅箔間的結合強度,所以在化學鍍銅前必須進行基體的清潔處理。最常用的清洗液及操作條件列於表如下:清洗液及操作條件配方組分123碳酸鈉(g/l)40~60——磷酸三鈉(g/l)40~60——OP乳化劑(g/l)2~3——氫氧化鈉(g/l)—10~15—金屬洗淨劑(g/l)——10~15溫度(℃)505040處理時間(min)333攪拌方法空氣攪拌機械移動空氣攪拌機械移動空氣攪拌機械移動3.覆銅箔粗化處理
利用化學微蝕刻法對銅表麵進行浸蝕處理(蝕刻深度為2-3微米),使銅表麵產生凹凸不平的微觀粗糙帶活性的表麵,從而保證化學鍍銅層和銅箔基體之間有牢固的結合強度。以往粗化處理主要采用過硫 酸鹽或酸性氯化銅水溶液進行微蝕粗化處理。現在大多采用硫酸/雙氧水(H2SO4/H202 )其蝕刻速度比較恒定,粗化效果均勻一致。由於雙氧水易分解,所以在該溶液中應加入合適的穩定劑,這樣可控製雙氧水的快速分解,提高蝕刻溶液的穩定性使成本進一步降低。常用微蝕液配方如下:硫 酸H2SO4150~200克/升雙氧水H202 40~80毫升/升
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